UiO fortsatt på bronseplass i Norden

Universitetet i Oslo kommer på 65. plass på en rangering av verdens universiteter utarbeidet av Shanghai Jiao Tong universitetet i Kina. Dette er en plass ned fra i fjor. I Europa ligger UiO på 18. plass og i Norden er det nummer tre etter Københavns Universitet og Karolinska Institutet i Stockholm, står det i ei pressemelding fra UiO.

GLAD: – Jeg er glad for at vi holder stillingen i en meget hard internasjonal konkurranse, sier rektor Ole Petter Ottersen i en kommentar til UiO kommer på 65. plass på den siste verdensrankingen.

Foto: Ola Sæther

Det er Harvard University i USA som topper listen sammen med Stanford, Berkeley i California og Cambridge i England.

– Jeg er glad for at vi holder stillingen i en meget hard internasjonal konkurranse, sier rektor Ole Petter Ottersen. Dette er en rangering som nesten utelukkende legger vekt på forskningsresultater.

Siteringer og antall publiseringer

Det er de sterke individuelle prestasjonene gjennom siteringer og antall publiseringer som blir honorert. Deltakelse i internasjonale konkurranser som forskningspriser og nobelpriser teller også tungt. På denne bakgrunn er plasseringene til Universitetet i Oslo gode, mener Ottersen:

– Men vi kan ikke hvile på disse prestasjonene. Konkurransen tilsier at vi må jobbe hardt for å komme videre, sier Ottersen.

Skårer høyt i samfunnsvitenskap

Ottersen har merket seg at på de fagområdelistene som er offentliggjort, gjør UiO det godt i samfunnsvitenskap (76) og i IT-fag (49) blant de hundre beste universitetene.

Totalt er det 7 svenske institusjoner som er med blant de hundre beste på fagområde-listene og 5 danske og en finsk. Fra Norge er det bare Universitetet i Oslo som er representert. Dette er lister som er utarbeidet innen fagområdene samfunnsvitenskap, klinisk medisin og farmasi, biomedisin, realfag, ingeniørfag, teknologi og IT.
 

Emneord: Rangering, Internasjonalisering
Publisert 2. nov. 2009 17:16 - Sist endret 2. nov. 2009 17:25
Legg til kommentar

Logg inn for å kommentere

Ikke UiO- eller Feide-bruker?
Opprett en WebID-bruker for å kommentere