UiO opp 22 plasser på ny rangering

Universitetet i Oslo går opp fra 111. plass til 89. plass på den siste universitetsrangeringen fra QS - World University Rankings for 2013/2014. Massachusetts Institute of Technology (MiT) er på førsteplass akkurat som i fjor.

OPPGANG: Universitetet i Oslo blir nummer 89 på den siste rangeringen fra QS-World University Ranking. Universitetet har klatret opp 22 plasser siden i fjor.

Foto: Ola Sæther

I Norden er det Københavns Universitet som gjør det best ved å havne på plass nummer 50 mellom verdens beste universiteter.

USA og Storbritannia tar de elleve første plassene

Det er de to nordamerikanske universitetene Massachusetts Institute of Technology (MiT) og Harvard som inntar de to øverste plassene på pallen. På tredjeplass følger University of Cambridge fra Storbritannia. Det viser årets rangering fra QS - World University Rankings som ble offentliggjort for 45 minutter siden.

De amerikanske og britiske universitetene tar alle plassen fra 1 til 11. På tolvteplass kommer det første universitetet utenfor den engelskspråklige verden. Det er Swiss Federal University of Technology i Zürich. Også Ecole Polytechnique Federal de Lausanne (EPFL) er mellom de 20 beste universitetene, og det sørger derfor for at Sveits har to universiteter mellom verdens 20 beste. Ingen asiatiske universiteter er blant de 20 beste. Kina har bare 11 universiteter inne på 400-på topp-listen.

– Omdømmet teller

– I QS-rangeringen betyr universitetenes omdømme mye. Sterkere internasjonal deltagelse påvirker vårt omdømme positivt, sier Ole Petter Ottersen, rektor ved UiO.

– UiO deltar i økende grad i internasjonale fagmiljøer, og blir slik mer synlig internasjonalt, fortsetter Ottersen i en pressemelding.

I neste måned publiseres den mest prestisjetunge rangeringen, Times Higher Education Supplement World University Rankings. Det blir årets siste universitetsrangering.

 

Emneord: Internasjonalisering, Rangering Av Martin Toft
Publisert 10. sep. 2013 14:12 - Sist endret 10. sep. 2013 14:51
Legg til kommentar

Logg inn for å kommentere

Ikke UiO- eller Feide-bruker?
Opprett en WebID-bruker for å kommentere